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紅外輻射燃燒機(jī)系統(tǒng) |
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納米加熱圈系列 |
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納米 遠(yuǎn)紅外節(jié)能加熱圈 |
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電加熱器系列 |
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硅橡膠加熱器(板) |
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醫(yī)療高溫滅菌器加熱膜 |
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硅橡膠加熱帶 |
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電熱管 |
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熱處理設(shè)備系列 |
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三甘醇清洗爐 |
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預(yù)熱保溫設(shè)備系列 |
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箱式預(yù)熱爐 |
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臥式預(yù)熱爐 |
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非井式預(yù)熱爐 |
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真空爐 |
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氮化爐 |
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烘房 |
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烘道 |
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電加熱爐 |
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真空清洗爐L系列真空清洗爐 適用于化纖行業(yè)的滌淪、錦淪和丙淪生產(chǎn)用的組件、噴絲板、過(guò)慮芯等清潔處理,也適用于塑料擠出行業(yè)的模具清潔之用。 該設(shè)備利用高分子聚合物在300度左右時(shí)可熔融,高于300度隔絕空氣可裂解憔化,高于400度在有少量空氣并有一定真空度的環(huán)境中可完全氧化的特性,先將粘有高分子污物的工件加熱到300度(根據(jù)工藝要求擬定),使工件上數(shù)量較多的高分子聚合物熔化后流淌到爐膛下部的收集容器內(nèi),然后再將爐溫升到 400-500度,同時(shí)打開(kāi)真空泵,并通入少量新鮮空氣,使剩余的聚合物充分氧化,生成的二氧化碳,經(jīng)水噴淋后通過(guò)水環(huán)式真空泵抽吸,和水一起排出爐外。 該系列真空清洗爐均采用不銹鋼電熱管真空爐膛內(nèi)直接加熱,密封部位均采用耐高溫密封圈,不需水冷卻保護(hù),所以,該設(shè)備加熱功率小,熱效率高,升溫速度快,溫度均勻性好,加熱器檢查維修方便,較爐外帶式加熱器加熱節(jié)電40%,節(jié)水60%,并且,克服了由于水冷卻導(dǎo)致的爐內(nèi)溫度均勻性差,局部清洗效果不好等缺陷。 該設(shè)備具有完整的自動(dòng)化工作性能,只要對(duì)程序溫度控制儀輸入擬定的工作程序,設(shè)備即能進(jìn)行自動(dòng)化清洗工作,中途無(wú)需人工干預(yù),并具有超溫、缺相和斷水或低水壓報(bào)警功能。 |
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型號(hào) |
爐膛尺寸 |
外型尺寸 |
使用功率:KW 加熱 /真空泵 |
真空度MPa |
耗水量 m3/h |
控制精度 ± ℃ |
L真空清洗爐L-A |
φ500×600 |
1200×1800×2100 |
18/2.2 |
-0.07-0.085 |
0.23 |
2 |
L真空清洗爐L-B |
φ600×800 |
2200×2000×2300 |
21/2.2 |
-0.07-0.085 |
0.23 |
2 |
L真空清洗爐L-C |
φ800×1000 |
2600×2300×2500 |
27/3 |
-0.07-0.085 |
0.28 |
2 |
L真空清洗爐L-D |
φ1000×1200 |
2800×2500×2700 |
32/4 |
-0.07-0.085 |
0.45 |
2 |
J真空清洗爐L-A |
600×400×400 |
1600×1200×1000 |
18/2.2 |
-0.07-0.085 |
0.23 |
2 |
J真空清洗爐L-B |
800×600×600 |
1800×1300×1100 |
21/3 |
-0.07-0.085 |
0.28 |
2 |
J真空清洗爐L-C |
1000×800×600 |
2100×1500×1300 |
27/3 |
-0.07-0.085 |
0.28 |
2 |
J真空清洗爐L-D |
1200×800×800 |
2100×1500×1600 |
32/4 |
-0.07-0.085 |
0.45 |
2 |
W真空清洗爐L-A |
φ500×60 |
2000×1000×1300 |
18/2.2 |
-0.07-0.085 |
0.23 |
2 |
W真空清洗爐L-B |
φ600×900 |
2400×1100×1600 |
21/2.2 |
-0.07-0.085 |
0.23 |
2 |
W真空清洗爐L-C |
φ800×1100 |
2600×1200×1800 |
27/3 |
-0.07-0.085 |
0.28 |
2 |
W真空清洗爐L-D |
φ1000×1500 |
2800×1400×2000 |
32/4 |
-0.07-0.085 |
0.45 |
2 | |
(本產(chǎn)品可以更具客戶要求定做,提供圖紙,電壓,功率,尺寸) | |
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